Flexible, photosensible Lötstoppmasken
2-Komponenten System von NIPPON POLYTECH, wässrig-alkalisch entwickelbar. Die Produkte haben eine glatte Oberfläche, eine gute Ausfallsicherheit und wurden für Marktanforderungen von Fine Pitch Anwendungen und der Herstellung hoher Packungsdichten auf flexiblen Schaltungen entwickelt.
Flexibler fotosensibler Lötstopplack von Electra
- hohe Flexibilität
- gute chemische Beständigkeit
- feine Strukturen
- vergleichsweise geringe Lichtmenge zum Belichten
- Direktbelichtung möglich
- verschiedene Auftragsarten
- mehrere Farben erhältlich
Die flexible photosensible Lötstoppmaske NPR-80/ID60 ist ein neu entwickeltes, 2-komponentiges System, das den schnell wachsenden Ansprüchen des Marktes nach flexiblen Schaltungen mit hoher Packungsdichte und Feinleitertechnik gerecht wird. Es ist ein alkalisch entwickelbarer Siebdrucklack mit ausgezeichneten technischen Eigenschaften. Der NPR-80/ID60 erfüllt die Anforderungen der UL 94 V-0.
